应开云手机在线登入,开云(中国)席力老师邀请，北京埃德万斯（Advanced）离子束技术研究所首席专家刘金声研究员将来我校访问并作学术报告。

时间：6月11日（星期五） 下午 15：00

地点：齐云楼0620室

报告题目：薄膜形成及离子束改性原理

薄膜是目前一个非常重要的研究方向。对薄膜形成机理的了解是非常重要的，其中离子束辅助沉积是其中一种比较理想方法。因此本报告将重点介绍：

1）薄膜生长机理过程

2）薄膜应力、附着力、机械性质

3）离子束辅助沉积（IBAD）薄膜方法及应用

4）硬非晶碳特性

5）类金刚石a-c薄膜

6）超硬薄膜研究和进展等

主讲人简介：

刘金声研究员主要从事离子束技术及应用的研究，通过对多学科多领域取得的开创性研发成果和国际交流，结合丰富的实践经验，发表和完成了许多重要论文。在国际和国内专刊发表文章包括：

1.卡夫曼离子源设计中的几个基本问题（上）（1986年第一期微细加工技术）

2.卡夫曼离子源设计中的几个基本问题（下）1986年第二期微细加工技术）

3.等光强分束器的干法刻蚀（美国J.V.S.T,1989年）

4.高速离子铣技术研究（1985年航天部二院院刊）

5.纳米器件与干法刻蚀技术目前发展的特点（1993年微细加工技术）

6.LIGA技术的掩模制造（1995年微细加工技术）

7.硬涂层材料的选择（1988年系统工程与电子技术）

8.Sub-100-nm特征尺寸研究及干法刻蚀技术的近代发展特点（1989年系统工程与电子技术）

9.超导：幻想与现实（1989年系统工程与电子技术）

10.Kaufman离子束技术新的研制结果（1984年航天部二院院刊）

11.国际微米/纳米及X射线光刻技术的发展（1997年航天部二院院刊）

12.氮化钽薄膜特性及1MH2~18GH2宽频电场偶极天线探测器研制（1994年航天部二院院刊）

13.离子束技术应用的新发展（1987年微细加工论文集）

14.国际X射线光刻技术的现状（1997年访苏联出国考察技术报告专辑）

15.微纳米科学技术及其在航天工程中的应用（2001年内部资料）

已由国防出版社出版著作：

16.离子束技术及应用（1995年）2.离子束沉积薄膜及应用（2003年）