应开云手机在线登入,开云(中国)谢二庆教授邀请，中国科学院微电子研究所陈宝钦研究员将来我校访问并作学术报告。

时间：5月28日（星期五） 晚上 19：00

地点：格致楼5004室

报告题目：微光刻与微纳米加工技术

微光刻与微纳米加工技术是微电子技术发展的关键技术之一，并广泛应用于微光学、微机械及其他微纳米制造领域，尤其电子束光刻技术在纳米制造领域中起着十分重要的作用。本报告将重点介绍：

1）国内外微光刻与微纳米加工技术发展历程；

2）光学曝光技术、光学曝光分辨率增强技术及先进掩模技术

3）应用于微纳米制造的电子束直写技术及电子束极限光刻技术；

4）微光刻图形数据处理技术与邻近效应校正技术；

5）下一代光刻技术及后光学光刻技术；

6）传统和非传统的纳米制造技术等。

主讲人简介：

陈宝钦，教授，研究员，博士生导师，1942年生于福建省福州市，1966年毕业于北京大学物理系，1968-1985年任职于中国科学院半导体研究所，1986年至今于中国科学院微电子研究所。兼职中国科学院研究生院教授，北京半导体专业委员会副主任、制版分会主任，全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任、微光刻分委会主任，全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长。四十年来一直从事光掩模与先进掩模制造技术、电子束光刻技术、微光刻与微纳米加工技术研究和开发工作。获得的主要学术成果包括：

（1）在1979年、1981年获中国科学院重大科技成果一等奖的大规模集成电路研究中负责主持光掩模制作技术的研究；

（2）1991年在荣获国家科技进步特等奖的北京正负电子对撞机建设中做出了成绩，受到国务院总理签署的表彰；

（3）在主持或者参加的其它各项科研活动获多项科技奖，并分别于1991年至2007年先后获航天部、北京市和中国科学院科技进步奖一等奖两项、二等奖六项、国家科技进步奖三等奖一项和国家技术发明奖二等奖一项。